大族激光8月10日在互動平臺表示，公司在研光刻機項目分辨率3-5μm，主要聚焦在分立器件、LED等方面的應用，目前已接到少量訂單。

　　光刻機是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。而光刻機是中國芯片發展的最大障礙。

　　眾所周知，高端芯片制造所需的光刻機一直以來被荷蘭ASML公司壟斷，一臺精密光刻機售價上百億，而我國半導體行業起步較晚，光刻機技術與ASML的差距非常大。

       具體地，我國光刻機最高技術也就上海微電子所生產的90nm光刻機。除此之外，目前合肥芯碩半導體公司也具備量產200nm光刻機的實力，無錫影幻半導體公司也具備200nm光刻機量產的實力。而ASML則在7nm級別。

        簡單來看，這些數字差距可能看起來不大，但事實上，90nm跟28nm或者是7nm是千差萬別的，光刻機每上一個臺階技術難度就會大大增加，可能從90nm升級到65nm并不難，但是從65nm升級到45nm，就是一個技術節點了，至于28nm、14nm和7nm，甚至未來有可能出現的3nm，那難度就更大了。也正因為如此，我國的光刻機的研發進度一直都比較緩慢。

　　據有關媒體報道，光刻機正成為華為的第四場戰役。據悉，余承東在一次百人大會上的時候透露過，早在四年前，華為就已經為接下來集團的布局做好準備了，他們在2016年的時候就已經成立了團隊去研發光刻機，現在已經取得了很大的進展。