眾所周知，目前嚴重制約國產芯片制造技術進步的設備，就是光刻機了，因為目前全球最先進的光刻機是ASML的EUV光刻機，用于7nm及以下的芯片生產，僅ASML能夠生產，卻不能賣給中國大陸。

而國內最強的上海微電子生產的光刻機，還在90nm，業內人士表示，我們與ASML的差距可能得有10年以上。

也正因為買不到EUV光刻機，所以我們目前的芯片制造技術還停留在14nm，所以發展自己的光刻機，成為了當前芯片市場的重中之重。

而近日，傳出一則消息，那就是華為也開始布局光刻機了，華為旗下的專業投資半導體產業的哈勃投資，正式入股北京科益虹源光電技術有限公司。

所占股份大約為4.7619%，而投資金額大約在1000萬元左右，目前科益虹源的注冊資金變成了20160萬元。

科益虹源是什么來頭？它是國內唯一，也是全球第三家具備193nm ArF準分子激光技術研究和產品化的公司。

在2018年的時候，科益虹源自主設計開發的國內首臺高能準分子激光器順利出貨，目前已經是國內光刻機廠商上海微電子的光源系統供應商。

此外，科益虹源還承擔了“02重大專項浸沒光刻光源研發”、“02重大專項核心零部件國產化能力建設”、“02重大專項集成電路晶圓缺陷檢測光源”等國家專項，可以說是目前在光刻機光源這個核心技術上，最厲害的國產廠商了。

當然光刻機中的核心部件特別多，比如ASML的EUV光刻機，有10多萬個零件，光源之只是其中的一部分，但如果要攻克光刻機，光源是必不可少的部分，也是必須要攻克的部分，是核心中的核心。

所以華為哈勃投資入股科益虹源，很明顯，是為了加碼布局光刻機領域的研發，畢竟華為目前非常需要國產芯片制造技術能夠崛起。

所以爭取國產光刻機，早日能夠突破，追上甚至超過ASML的水平，那么國產芯片制造技術，就會有長足的進步。