激光清洗技術是激光技術在工程領域的一種成功應用，其基本原理是利用激光能量密度高的特點，使激光與工件基底上附著的污染物相互作用，以瞬間受熱膨脹、熔化、氣體揮發等形式與工件基底分離。激光清洗技術具有高效、環保、節能等特點，已成功應用于輪胎模具清洗、飛機機體除漆、文物修復等領域。
傳統清洗技術包括機械摩擦清洗（噴砂清洗、高壓水槍清洗等）、化學腐蝕清洗、超聲波清洗、干冰清洗等，這些清洗技術已經廣泛應用于各行各業，如噴砂清洗通過選擇不同硬度的磨料可以清洗金屬繡斑、金屬表面毛刺、電路板表面三防漆等，化學腐蝕清洗技術廣泛用于設備表面油垢清洗、鍋爐水垢清洗、輸油管路清洗等領域。雖然這些清洗技術已發展成熟，但仍然存在一些問題，如噴砂清洗容易對處理表面造成損傷，化學腐蝕清洗會造成環境污染、處理不當時導致清理表面腐蝕。
激光清洗技術的出現是對清洗技術的一次革命。激光清洗技術利用了激光的能量密度高、精度高、可高效傳導等優點，較傳統清洗技術在清洗效率、清洗精度、清理位置等方面有明顯優勢，可有效避免化學腐蝕清洗等清洗技術會造成的環境污染，且不會對基底產生損傷。
激光清洗的原理
那么什么是激光清洗呢？激光清洗是通過激光束照射從固體（或有時為液體）表面去除材料的過程。在低激光通量下，材料被吸收的激光能量加熱并蒸發或升華。在高激光通量下，材料通常會轉換為等離子體。通常，激光清洗是指用脈沖激光去除材料，但是如果激光強度足夠高，則可以用連續波激光束燒蝕材料。深紫外光的準分子激光器主要用于光燒蝕。用于光燒蝕的激光波長約為200nm。吸收激光能量的深度以及單個激光脈沖去除的材料量取決于材料的光學特性以及激光波長和脈沖長度。每個激光脈沖從靶標燒蝕的總質量通常稱為燒蝕率。激光束掃描速度和掃描線覆蓋率等激光輻射特征會顯著影響燒蝕過程。
干式激光清洗即脈沖激光直接照射清洗工件，使基底或表面污染物吸收能量溫度升高，產生熱膨脹或基底熱振動，進而使二者分離。該方法大致分為2種情況：一種是表面污染物吸收激光膨脹；另一種是基底吸收激光產生熱振動。1969年，S.M.Bedair 等人發現包括熱處理、化學腐蝕、噴砂清洗等表面處理方法均存在不同的缺點，同時，利用激光聚焦后的高能量密度可以使材料表面蒸發的現象存在無損清洗材料表面的可能，通過實驗發現，使用功率密度為30 MW/cm2 的紅寶石調Q 激光可以實現不損傷基底的情況清洗硅材表面污染物，首次實現了利用激光清洗材料表面污染物，即激光干式清洗。
在脈沖激光照射待洗工件前，先進行表面預涂液膜，在激光的作用下液膜溫度快速升高而氣化，氣化的瞬間產生沖擊波，作用在污染物顆粒中，使其從基體上脫落。此方法要求基體與液膜不能發生反應，故限制了應用材料的范圍。1991年，K.Imen 等人針對使用傳統清洗方法處理后半導體晶圓、金屬材料等表面有亞微米顆粒污染物殘留的問題，研究了在材料基體表面涂覆一種可高效吸收激光的薄膜，隨后使用CO2 激光器進行照射，薄膜吸收激光能量后溫度迅速升高并沸騰，產生爆炸性汽化，將基體表面的污染物帶走。這種清洗方式即為激光濕式清洗。激光等離子體沖擊波是在激光照射過程中擊穿空氣介質而產生球狀等離子體沖擊波，沖擊波作用在待洗基體表面并且釋放能量將污染物去除；激光未作用于基體，因此對基體不產生傷害。激光等離子體沖擊波清洗技術現已可以清洗幾十納米粒徑的顆粒污染物，并且對激光波長沒有限制。a) 激光器發射的光束被需處理表面上的污染層所吸收。b) 大能量的吸收形成急劇膨脹的等離子體（高度電離的不穩定氣體），產生沖擊波。d) 光脈沖寬度必須足夠短，以避免使被處理表面遭到破壞的熱積累。e) 實驗表明當金屬表面上有氧化物時，等離子體產生于金屬表面。等離子體只在能量密度高于閾值的情況下產生，這個閾值取決于被去除的污染層或氧化層。這個閾值效應對在保證基底材料安全的情況下進行有效清潔非常重要。等離子體的出現還存在第二個閾值。如果能量密度超過這一閾值，則基底材料將被破壞。為在保證基底材料安全的前提下進行有效的清潔，必須根據情況調整激光參數，使光脈沖的能量密度嚴格處于兩個閾值之間。2001年，J.M.Lee 等人利用高功率激光聚焦時會產生等離子體沖擊波的特點，使用能量密度為2.0 J/cm2（遠大于硅片的損傷閾值）的脈沖激光平行于硅片進行照射，成功清洗了吸附在硅片表面的1 μm 鎢顆粒。這種清洗方式即為激光等離子體沖擊波清洗，嚴格意義上說，激光等離子體沖擊波清洗是干式激光清洗的一種。上述3 種激光清洗技術最初的的目均為清洗半導體晶圓表面的微小顆粒，可以說激光清洗技術是隨著半導體技術的發展而出現的。但是激光清洗技術不斷應用于其他領域，如輪胎模具清洗、飛機蒙皮除漆、文物表面修復等。在激光輻射的同時，可用惰性氣體吹向基體表面，當污物從表面剝離后會立即被氣體吹離表面，以避免表面再次污染和氧化。半導體晶圓及光學基片的清洗半導體晶圓和光學基片在加工過程中存在相同的工藝，即將原材料以切割、磨削等形式加工為需要的形狀。在這個過程中會引入顆粒狀污染物，這些污染物難以清除且重復污染問題嚴重。半導體晶圓表面的污染物會影響電路板印刷的質量，進而縮短半導體芯片的使用壽命。光學基片表面的污染物會影響光學器件及鍍膜的質量，可能會導致能量不均勻，縮短使用壽命。由于激光干式清洗容易造成基體表面損傷，這種清洗方式在半導體晶圓與光學基片的清洗中應用較少，激光濕式清洗和激光等離子體沖擊波清洗在該領域中有著較多成功的應用。徐傳義等研究了在超光滑光學基片表面沉積微米級特制磁漆作為介質膜，隨后使用脈沖激光器進行清洗，清洗效果較好，雖然其單位面積的雜質顆粒物增多，但是雜質顆粒尺寸和覆蓋面積均明顯下降，該方法可以有效清洗超光滑光學基片表面的微米級污染物顆粒。張平研究了激光等離子體清洗技術中工作距離和激光能量對不同粒徑污染物顆粒清洗效果的影響，試驗結果表明對于導電玻璃基片上的聚苯乙烯顆粒，能量為240 mJ 激光的最佳工作距離為1.90 mm，隨著激光能量的增加清理效果明顯增加，且大顆粒污染物更容易清理。金屬材料表面的清理金屬材料表面的清理相較于半導體晶圓及光學基片的清洗而言，清理的污染物屬于宏觀范疇。金屬材料表面的污染物主要有氧化層（銹蝕層）、漆層、涂層、其他附著物等，按污染物類型可分為有機污染物（如漆層、涂層）和無機污染物（如銹蝕層）。金屬材料表面污染物的清理主要為了滿足后續加工或使用要求，如鈦合金零件焊接前需清除材料表面約10μm厚的氧化層，飛機大修時需清除蒙皮表面原有的油漆涂層以便于重新噴涂，橡膠輪胎模具需定期清理其附著的橡膠顆粒以保證表面的清潔度進而保證生產輪胎的質量及模具的壽命。金屬材料的損傷閾值較其表面污染物的激光清洗閾值要高，通過選擇合適功率激光即可達到較好的清洗效果，在一些領域已成熟應用。王利華等人研究了激光清洗技術在處理鋁合金和鈦合金表面氧化皮中的應用，研究結果表明使用能量密度為5.1 J/cm2 的激光可在清理A5083-111H 鋁合金表面氧化層的同時保持基底的良好質量，使用平均功率為100 W 的脈沖激光以掃描的方式可有效清洗鈦合金表面的氧化層并提高材料表面硬度。國內銳科激光、大族激光、深圳創鑫等公司研制的激光清洗設備已廣泛應用于輪胎等橡膠模具、金屬銹蝕層、零部件表面油污等清洗。
文物和紙張表面的清理金屬文物和石質文物等由于歷史悠久，在其表面會出現如灰垢、墨跡等污染物，需將這些污染物進行清理以復原文物。書畫等紙張在存儲不當時其表面會生長霉菌并形成菌斑，這些菌斑嚴重影響了紙張的原貌，尤其是對于文化或歷史價值高的紙張，會影響其欣賞和保護。趙瑩等人研究了紫外激光清洗宣紙上霉菌菌斑的可行性，試驗結果顯示，使用能量密度為3.2 J/mm2 的激光掃描1 次可清除薄的菌斑，掃描2 次可將菌斑清除干凈，但是如果使用的激光能量過高，會在清除菌斑的同時損壞宣紙。張曉彤等人采用激光垂直照射液膜法成功修復了一件鎏金青銅文物。張力程等在一件漢代彩繪女陶俑的修復中使用了激光清洗技術。袁曉東等人研究了激光清洗技術在石質文物清洗中應用的效果，分別對比了清洗前后砂巖本體的損傷及墨跡清洗、煙熏污染清洗、油漆污染清洗的效果。激光清洗技術是一種較為先進的技術，在航空航天、軍工裝備、電子電氣等高精尖領域具有廣闊的研究和應用前景。目前激光清洗技術已經在一些領域成熟應用，得益于其高效、環保、清洗效果好等特點，其應用領域也在逐漸拓寬。激光清洗技術的發展不僅已經在除漆、除銹等領域成熟應用，近些年又有利用激光清洗金屬絲表面氧化層的報道。現有領域的拓展應用和新領域的應用是激光清洗技術發展的基礎。新型激光清洗設備的研制開發以及新型激光清洗設備的開發會出現分化，發展出各種各樣的功能。在未來通過與工業機器人配合實現全自動激光清洗也是可以實現的。（1）加強激光清洗理論研究，指導激光清洗技術應用。查閱大量文獻發現，激光清洗技術沒有成熟的理論體系支撐，多數研究都是基于試驗開展的。建立激光清洗理論體系是激光清洗技術進一步發展成熟的基礎。（2）現有領域的拓展應用及新領域的應用。激光清洗技術已經在除漆、除銹等領域成熟應用，近些年又有利用激光清洗金屬絲表面氧化層的報道。現有領域的拓展應用和新領域的應用是激光清洗技術發展的沃土。（3）新型激光清洗設備的研制開發。新型激光清洗設備的開發會出現分化，一類是覆蓋多個應用領域具有一定通用性的設備，如一臺設備可以同時實現除漆和除銹功能，另一類是針對特定需求的專用設備，如為了清洗小空間內部的污染物可能需要設計特定工裝或者光纖實現功能。通過與工業機器人配合實現全自動激光清洗也是一個熱門的應用方向。
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