11月16日消息,國家知識產權局信息顯示,海寧久達光電科技股份有限公司取得一項名為“一種半導體激光器生產用真空防繞鍍翻轉工裝”的專利,授權公告號 CN 222008019 U,申請日期為2024年4月。
專利摘要顯示,本實用新型公開了一種半導體激光器生產用真空防繞鍍翻轉工裝,包括側板、框架和倉體,所述框架分別設置在倉體的上部、下部,所述側板分別固定在框架的兩側,所述倉體的兩側均固定有支板,且所述支板的側部分別設置有左罩體、右罩體,所述左罩體與側板之間轉動連接有轉柄,所述右罩體與側板之間轉動連接有安裝座,所述倉體的上端設置有入口槽,所述倉體的內部設置有基片,所述倉體內壁的兩側設置有凸條滑軌,且所述凸條滑軌上滑動連接有滑塊,所述基片的兩側均設置有夾塊,且夾塊的下端與滑塊的上端固定連接。本實用新型鍍膜效果好,穩定性佳。
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