Essential Macleod 是一套完備的光學薄膜分析與設計的軟件包﹐它能在所有 32 位的微軟視窗操作系統下運行，并且具有真正的多文檔操作界面；它能滿足光學鍍膜設計中的各種要求，也能對波分復用（ WDM ）和密集波分復用（ DWDM ）濾波片進行測評；它可以處理從超快光到顏色的各種性能參數；可以從頭開始設計也可以優化已有的設計；可以勘測在設計中的誤差，也可以萃取設計用到的光學薄膜常數。
Essential Macleod 特色
容易使用，熟悉的窗口外觀與感覺
完整的效能計算
用戶定義的單位
設計改善
設計綜合
折射率改善
n 和 k 的導出
公差
色彩計算
材質管理
完全的支持服務
超快參數
調適性繪圖
設計與分析工具
出版水準的圖形
匯出設計到 ZEMAX
Macleod 增益功能擴展。容易使用，熟悉的窗口外觀與感覺
Essential Macleod 功能說明
效能計算 （ Performance Caculations ）
Essential Macleod 提供了整組完整的效能計算。除了一般反射和透射計算外，也包括的密度、吸收，橢圓對稱參
數，超快參數( 群組延遲、群組延遲色散、三階色散 ) 、和多光色散。以可以進行色彩計算。公差的計算是要你有
能力分辨設計對微小厚度變化的靈敏度。
用戶定義單位
單位通常對用戶的使用會產生問題，但在 Essential Maclead 則不會，因為實質上任何獨立變量的一致性單位都可以被使用。電子伏特或 Gigahertz 或頻率波數，埃或奈米或微米甚至微 - 英吋作為波長單位皆可使用。單位間的轉換也很容易。
調適性繪圖
效能計算結果的調適性繪圖是 Essential Macleod. 的特色。可以自動調整繪圖的間隔來中實的顯現后續的條紋。如果不是調適性繪圖，條紋的大小可能會漏失。
綜合
Optimac 技術也能以綜合的模式操作，以加入或移開膜層的方式，以符合規格的需求。綜合法可使用于改進原有的設計，或是僅由一個材質表及一個規格，即可創造新的設計。此圖顯示以這種方式的防反射膜層設計的過程。Optimac 是可以紀錄的。它維護了一個完整的優化設計歷史，允許設計效能與復雜度之間作取舍。
色彩計算
色彩計算，根據以下最為常用的色彩規格 Tristimulus
Chromaticity
CIE L*a*b*
CIE L*u*v*
Hunter Lab
某些光源選擇是預先定義好的，而你可以根據需要另作選擇。 CIE 1931 和 1964 配色函數也包含在內。同要的你也
可以另訂你所需要的。如同能計算透射及反射的色彩，色彩也可以改善法或綜合法的標的物來定義。
設計工具
Essential Macleod 提供不同種類的工具，來支持設計過程。 . Editing ( 編輯 ) 工具使得設計的操作更為容易。這些工具包括：設計中進行膜層反轉，變更所有設計材質，以公式設計，厚度成比例增減，匹配角度計算，及刪除，非鄰接膜層的復制及貼上。類似的工具亦可編輯需求規格、材質資料、表格以及圖形。也提供能設計感應透射濾波器 (Induced Transmission Filters) ，非偏振邊濾波器 (Non-polarising Edge Filters), 以及等效 (Herpin) 膜層參數的計算。 Induced Transmission Filter 工具計算特定金屬層的位能透射率，及計算需要匹配濾波器與四分之一波電介質膜層的厚度。它也可以使用于從一特定的吸收材質的既定厚度 . ， 決定最大可能的透射率。 The Non-polarising Edge Filter 工具，根據五膜層雙材質對稱形結構，創造出初始的對稱周期設計。最外層膜層可以之后被改善，匹配濾波器設計與基底，和入射介質。
逆向工程（ Reverse Engineering ）
Essential Macleod 可對在制造過程中生成的誤差 提供鑒定支持；這方面支持是通過純化（ Simplex ）優化法的改進而達到的。 純化優化法可對折射率和厚度進行優化。對于制造過程中的誤差率特點和其他問題，通過各種方式對這些特征進行不同方面的約束， 純化優化法可方便的解決。這些約束條件可以逐漸改變或者取消，以得到最后的解決方案，并由此表明可能誤差的性質和大小。 而折射率的變化是以存儲密度改變的形式來表征。如果需要的話，我們也可以通過調整既有材料的存儲密度以創建出新的材料。
優化（ Refinement ）
Essential Macleod 提供了 Optimac 、非線性純化法（ Nonlinear Simplex ） 、模擬退火法（ Simulated Annealing ） 等優化 方法。在一般條件下，因為 OptiMac 的強大功能， 我們推薦使用這種優化法；而 Simplex 則較為快速和穩定 ；作為一種統計型 方法， Simulated Annealing 在阻抗型的情況里會很有效，但相對 耗時。在優化的工程中，為了使膜層的厚度無法改變，我們 可以鎖定該膜層。 Linking 法可以步進式的導致厚度的改變。優化對象可以以計算性能參數來定義，例如：顏色，波長（或頻率）、 入射角、質量以及公差。對象連接使得更加復雜的優化功能得以實現。對于不同波長和不同入射角的情況而言，對象發生器可協助 創建多對象。 使用 Optimac 、 Nonlinear Simplex 、 Simulated Annealing 進行改善 . 我們推薦在正常情形下使用 Optimac ，它是一個很好 的改善技術。 implex 則較為快速和穩定。 . Simulated Annealing 視為統計技術可以有向的使用于抗拒性情況，但是耗時。 在改善的過程中膜層可以被鎖定以防止其厚度的變化。 Linking 可以步階式的改變厚度。 要改善的標的物可以定義為任一效能計算結果的參數，像是顏色、波長 ( 或是頻率 ) ，入射角，重量以及公差。標地物允許更為 復雜的評價函數。一個標的物產生器可以幫助在不同的波長和入射角，創造多標的物。
分析工具（ Analysis Tools ）
其他分析工具包括：導納軌跡法（ Admittance diagrams ）、環形圖法（ Circle Diagrams ，反射系數 reflection coefficient) 以及電場圖（ Electric Field plots ） 。電場圖可以計算電場的絕對振幅值，這使得使用者可以比較多膜層的能量吸收﹐以估算 相對的損耗可能性；或是同一膜層不同波長的能量吸收。但這種方法對相對場的計算而言并不適合。導納軌跡法以及環形圖法則可 幫使用者了解設計是如何進行的， 通過導納或者復振幅系數的從系統中的后層到前層的轉換，這種方法將不同膜層的作用轉換至 一層單層膜，由此可以被視做一套完整的直觀記錄方法。
材料管理（ Materials Management ）
實際的材質會顯現其光學常數的色散，這與波長有關。實際的計算必須包含這些變動。每一種材質貯存于隨波長改變的折射率和消光系數的表格中。這允許對任一種色散建模。強大的編輯工具包括曲線外插，匯入/ 匯出功能等等，都非常容易使用。 材質行為通常不盡理想而且光學常數常常會隨特定的鍍膜機器和鋪置參數變動。操作條件也會 影響材質性能。舉例來說，一個冷卻的紅外線濾波器其作業效能可能迥異于室溫下的效能。多重材質數據庫因而也有提供。設計能夠很容易的由一個材質數據庫移到另一個， 始能探討溫度與鍍膜工廠不同的效應。多重材質數據庫還有另一優點。例如，它們允許屬于客戶的數據庫被獨立隔離保護。
導出系數 N 和 K （ N & K Derivation ）
雖然 Essential Macleod 提供了一套完整的材料數據庫，但是通常對于某一特定的鍍膜廠商，很可能會需要制造與數據庫中存儲的材料的光學常量不盡相同的光學薄膜。針對這種情況，根據分光光度計對測試薄膜的折射率和透射率的測量結果， N&K 導出法可方便地導出 n 與 k 的值。在封裝中使用這種方法是以包裝技術為基礎的，也十分的穩定。這種方法可以應用于“全透射”，“全反射”或者同時具有透射和反射的情況。根據得到的數據，我們可以檢測出膜層的多相性，或者吸收率或者同時兩方面的結果。
公差
Essential Macleod 的公差能力允許你探查設計相對于制造誤差的靈敏度。可以比較不同的設計以挑選出最優者。雖然設計可能相似， 其靈敏度則不然，由此公差特性即可顯示。
支持服務
Thin Film Center is 所提供的服務可以說是業界最好的。在維護期間的會員 (Members of the Update Service) 通常會有最新版的 軟件，而且免費的 35+ 年經驗支持的技術服務。他們也能收到有新聞、導覽、小常識的季刊。這些服務再購買軟件的第一年都是免費的，年維護費或在一年后才收取。Thin Film Center 也針對一般設計以及鍍膜制造，開授定期課程。此外也不斷的提供最好的 Essential Macleod 及其增一功能。
Essential Macleod 可增益功能的模塊
Runsheet
這個工具可設計鍍膜制程，包含機器配置編輯器以及跑單生成器。機器配置中貯存了鍍膜機的詳細設置，材料源以及制具因子以及監控系統。使用者可使用跑單生成器對既定的機器配置，進行鍍膜設計的監控規劃。該工具除了可同時具備光學與晶體監控功能外，也包括諸如動態加工因子和系統帶寬等高級特性。
Simulator
對于公差問題， Simulator 通過蒙特卡羅（ Monte Carlo ）法在實際模型控制過程的擴展來進行解決。通過一個由Runsheet 創建 的控制計劃， Simulator 可模擬薄膜淀積控制，引入隨機和系統效應，例如信號噪聲，加工因子的變動，封裝密度誤差等等，以及 顯示這些參數對于鍍膜制程的最終模擬結果的效應。
Monitorlink
Monitorlink 提供將 Runsheet 連結到一個淀積控制器的額外軟件。一個獨立的程序與控制器直接連接，而且一個Runsheet 的擴展 也賦予其產出和編輯淀積程序的功能。
VStack
VStack 是一種計算與優化的工具﹐它也能計算這些系統中斜射光的效應。當光束斜入射時，初始為 p- 偏振態的光線最終會以 p - 偏振態從系統出射。同理，原本是 s - 偏振態光也會以 p - 偏振態出射，我們稱此為 偏振泄漏(polarization leakage) 現象。 VStack 能計算泄漏的大小而且提供泄漏元件的 Delta 值。
Function
一些法向反射﹑透射﹑或是相位的計算通常需要非常龐大的計算量才能求得結果。電子數據表并不是一種合適的解法，一方面因為 它不方便進行插值操作，另一方面在處理不同數量的數據組字時會有困難。但 Function 可以完全自動計算，其簡單宏指令中的 操作 ( 具有內建的編輯器和語法檢查器 ) 能允許一再重復相同的計算。
DWDM Assistant
DWDA Assistant 可自主 設計一組多腔濾波片，以滿足用戶的不同規格，設計結果可以根據一些諸如總厚度﹑預計淀積時間等等 規范排序。