金屬納米點(nanodot)的可應用在如催化、環境修復(environmental remediation)、DNA偵測與高密度數據存儲等領域，其中某些應用需要周期性金屬納米點陣列，而目前主要制作方法包括以自組成為主的濕式化學處理與以光刻技術為主的納米圖案化技術。濕式化學處理有高產量的特性，但納米微粒成份必須為水溶性或具生物兼容性。而電子束光刻術與聚焦離子束等光刻工具雖能得到的排列規則且大小相近的納米點，產量卻很低。

　　為解決這個問題，美國普林斯頓大學的研究人員發展出一個既新穎又簡單的方法，來制作大面積的周期性金屬納米點陣列。該團隊將此低成本、高產量的技術稱為熔化誘發碎裂(melting induced fragmentation, MIF)。

　　首先，研究人員利用納米壓印光刻技術(nanoimprint lithography, NIL)在基板上制作出金納米柵圖案，接著以單發激光脈沖熔化納米柵，在線狀液體的雷利不穩定性(Rayleigh instability)作用下，納米柵圖案會碎裂并形成周期排列的圓型金屬納米點陣列。

用激光將金屬柵變成納米點陣列

　　為了進一步改善納米點的周期性，在進行金屬柵光刻術前，研究人員改用事先圖案化的基板，以加強控制稍后因熔化而產生的碎裂過程。基板上預制的淺溝槽與金屬柵的走向垂直，有助于熔化的金屬順利流入溝槽與柵的交點，以降低系統能量。因此納米點在原納米柵方向上的周期，不再取決于天然的MIF作用，而是由基板上淺溝槽的周期所主宰，這使納米點陣列的周期性變得更規律。

　　上述方法承襲了一般NIL技術的低成本、高產量特點。此外，寬度僅20 ns的激光脈沖對基板造成的熱效可以被忽略，因此MIF技術可以應用在更多基板材料上，包括塑料。這個簡單的制造方法可以推廣至其它材料，也能廣泛地應用在各種領域如磁學、等離子學、表面增強型拉曼散射與其它光電組件
 

。詳見Nanotechnology 20, p.285310 (2009)。