中國(guó)科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所高密度光存儲(chǔ)實(shí)驗(yàn)室魏勁松研究小組日前首次利用硫系薄膜實(shí)現(xiàn)高分辨率的灰度圖形光刻，該研究小組在干福熹院士和吳誼群研究員的帶領(lǐng)下長(zhǎng)期從事非線性超分辨納米光學(xué)與光子學(xué)研究以及微納結(jié)構(gòu)光刻構(gòu)造與應(yīng)用開(kāi)發(fā)。

　　該項(xiàng)研究首次發(fā)現(xiàn)利用激光直寫在硫系薄膜形成表面浮雕結(jié)構(gòu)，通過(guò)精確控制激光脈沖能量可以得到不同高度和尺寸的浮雕結(jié)構(gòu)，不同高度和尺寸的浮雕結(jié)構(gòu)產(chǎn)生不同的反射（透射）光譜，利用該效應(yīng)形成灰度光刻，并成功在Sb2Te3薄膜上刻寫出連續(xù)調(diào)灰度圖像。

　　Simon Pleasants博士評(píng)論指出：“硫系薄膜作為相變材料在光存儲(chǔ)，半導(dǎo)體存儲(chǔ)中具有廣泛的應(yīng)用，這些應(yīng)用基于硫系薄膜的非晶態(tài)和晶態(tài)所具有的不同光學(xué)特性和電學(xué)特性。現(xiàn)在，利用硫系薄膜的液態(tài)、氣態(tài)、晶態(tài)和非晶態(tài)四種狀態(tài)，演示了使用硫系相變薄膜作為灰度光刻材料制備灰度圖形。”

　　該研究通過(guò)激光直寫硫系相變材料形成表面浮雕結(jié)構(gòu)，為復(fù)雜灰度圖案的制備提供了新的解決辦法，這與當(dāng)前的曝光成像技術(shù)、電子束光刻、聚焦離子束光刻技術(shù)不同，是一種新穎簡(jiǎn)單又低成本的制造工藝。凸起的浮雕結(jié)構(gòu)展示的光學(xué)性能在高分辨率的微納圖像存儲(chǔ)，微藝術(shù)品加工和灰度掩膜制備等許多方面有潛在的應(yīng)用價(jià)值。

　　該項(xiàng)研究得到了國(guó)家自然科學(xué)基金、中國(guó)科學(xué)院科研裝備研制計(jì)劃和上海市科委基礎(chǔ)研究重點(diǎn)計(jì)劃的支持。