近日，韓國先進科學技術研究院（KAIST）化學和生物分子工程學系的一個研究團隊在Shin-Hyun Kim教授的領導下開發出了一種新型光刻技術，該技術主要通過氧擴散來控制形成功能性形狀的微型圖案。

光刻技術也被稱作光學光刻或UV光刻，其一些基本原理與攝像也有相似之處，主要都是通過投影曝光形成圖案。它其實是一個標準方法，即通過在光阻材料層的曝光將微型圖案轉印到襯底上，如今這種方法已經在半導體工業中得到廣泛使用。

不過在此之前，這一技術只能用于二維的設計，這是由于曝光區域和頂部區域之間的邊界是與光源的方向平行的。

然而，通過由Kim教授和他的團隊在對光刻技術的研究中發現，他們發現，暴露在UV光下的區域氧氣濃度會降低，并導致氧氣的擴散。通過控制氧氣的擴散速度和方向可以操縱其整體成型過程，包括聚合物的形狀和大小。

根據這一研究結果，研究團隊發明了一種基于光刻原理的新技術，它能夠利用氧的存在制造出微型三維結構。該技術主要利用氧氣濃度的差異引起氧氣到uv光照射區域內的擴散。最終，通過在這一過程中抑制劑的使用使得能夠制造出復雜的微型3D結構。

由Kim教授和他的團隊發明的這項新技術可以用于改進3D聚合物的制造工藝，以前很多人認為它很難用于商業用途。

 “雖然3D打印被認為是一種創新型的制造工藝，但它不能被用于大規模制造微觀產品。”金教授說。“這種新型光刻技術將會在學術界和工業級產生廣泛的影響，因為現有的，傳統的光刻設備可以用于發展更為復雜的微型結構。”