• <ul id="ikuqo"></ul>
    <tfoot id="ikuqo"></tfoot>
    <tfoot id="ikuqo"></tfoot>
  • <ul id="ikuqo"><sup id="ikuqo"></sup></ul>
  • 閱讀 | 訂閱
    閱讀 | 訂閱
    電子加工新聞

    微流體通道制作設備:無掩膜激光直接成像技術制作高精度光刻圖形

    Johnny Lee 來源:激光制造網2015-09-09 我要評論(0 )   

    隨著激光技術的發展,將激光技術直接應用于微米級元件的制作,價格低廉且速度更快。ProtoLaser LDI是一款無需掩模的激光直接成像設備,一束激光即可直接完成感光膠的曝...

            隨著激光技術的發展,將激光技術直接應用于微米級元件的制作,價格低廉且速度更快。ProtoLaser LDI是一款無需掩模的激光直接成像設備,一束激光即可直接完成感光膠的曝光。操作簡單,內置承載裝置,將樣品放入即可直接制作。
      4991_副本 
    功能強大的桌面型設備:LPKF ProtoLaser LDI激光直接成像設備可以在感光膠上制作微米級微結構
     
           LPKF與斯洛文尼亞公司Aresis以及盧布爾雅那大學共同研發了新一代低成本快速制作微結構設備。紫外激光直寫光刻設備(LDI)在光致抗蝕基材上直寫圖形,比傳統掩膜光刻工藝優勢更加明顯。
     
           LPKF LDI對于樣品的快速制作極大的推動了微流體通道以及微結構領域的研究和開發。實驗室生物芯片制作設備很大程度上促進了芯片小型化的制作過程并且減少了液體采樣量,避免樣本量的浪費。LDI設備為醫學、生物學、化學和物理學等領域的研發帶來了諸多可能性。制成的樣品可應用于血液細胞分析,醫療診斷和篩查、傳感器(化學、生物、環境和武器技術;汽車工程),化學合成和物理實驗。

    微流體通道的制作
           在從10納米級到100微米級的微流控的生產制造中主要有三種加工工藝。 
     
           傳統光刻的方法主要適合于大規模的生產。對于修改頻率高的樣品設計或小批量的制作,傳統光刻流程就太過復雜了。
     
           在電子束光刻中,電子束被電磁場聚集成微細束照到電子抗蝕劑(感光膠)上,從而形成微結構。電子束分辨率20-50nm。然而這個過程需要特殊抗蝕基材、導電基板、高真空,且花費時間很長。LPKF ProtoLaser LDI則具有可快速掃描的激光束,無掩膜激光直寫光刻技術制作微結構,加工過程快速、尺寸精準、邊緣平滑、拐角陡直。
    4990_副本
    SU8負性感光膠上制作幾何尺寸精準的柱形微結構
     
    LDI:快速、柔性、精準
           LPKF ProtoLaser LDI可用于制作微流體通道,MEMS、BioMEMS、集成光學、微結構光子實驗。在精度方面,LDI優于所有類似的需要掩膜的光刻設備。投資成本遠遠低于電子束光刻以及許多掩模對準裝置。即使寬度小于1μm的網格LDI也能夠輕松應對。 
     
           產品其他特點:激光波長為375nm TEM00紫外激光光束直寫,這也可以用于傳統的光刻工藝。軟件可控的激光光斑尺寸(1 - 3 μm)可以用來滿足不同的精度需求,集成的一體式攝像頭靶標識別對基材進行精準對位,自動校準,也能夠對尺寸較大的樣品進行制作和拼接。
      
           ProtoLaser LDI的產品在2014年10月26-10月30日首次在美國圣安東尼奧MicroTAS上進行展示。

    供稿:LPKF公司

    轉載請注明出處。

    激光技術激光直接成像LPKF微流體通道
    免責聲明

    ① 凡本網未注明其他出處的作品,版權均屬于激光制造網,未經本網授權不得轉載、摘編或利用其它方式使用。獲本網授權使用作品的,應在授權范圍內使 用,并注明"來源:激光制造網”。違反上述聲明者,本網將追究其相關責任。
    ② 凡本網注明其他來源的作品及圖片,均轉載自其它媒體,轉載目的在于傳遞更多信息,并不代表本媒贊同其觀點和對其真實性負責,版權歸原作者所有,如有侵權請聯系我們刪除。
    ③ 任何單位或個人認為本網內容可能涉嫌侵犯其合法權益,請及時向本網提出書面權利通知,并提供身份證明、權屬證明、具體鏈接(URL)及詳細侵權情況證明。本網在收到上述法律文件后,將會依法盡快移除相關涉嫌侵權的內容。

    網友點評
    0相關評論
    精彩導讀