4月17日，科創板企業舉行2019年度網上業績說明會。公司董事長尹志堯介紹，國內集成電路制造產業大發展，大量資金不斷投入，集成電路設備需求迅速提高。設備國產化條件逐漸成熟，國產化趨勢明顯，這些因素推動公司業績增長。中微公司計劃不斷開發新產品，提高市場占有率。公司將在適當時機通過投資、并購等外延式途徑，擴大產品和市場覆蓋，未來十年力爭發展成為國際一流的半導體設備公司。

業績快速增長

2019年中微公司實現營業總收入19.47億元，同比增長18.77%；實現歸屬于上市公司股東的凈利潤1.89億元，同比增長107.51%。

“堅持以市場和客戶需求為導向，積極應對復雜形勢，在刻蝕設備和MO的研發、市場布局等諸多方面取得了較大突破，產品不斷獲得更多客戶認可，為公司持續健康發展提供了有力支撐。”尹志堯說。

國內半導體設備需求增長等因素推動中微公司業績增長。

首先，公司主打產品等離子體刻蝕機市場迅速增長。尹志堯表示，公司的等離子體刻蝕設備系列產品不斷完善。公司具有CCP三代的電容性等離子體刻蝕機，包括雙臺反應器機型和單臺反應器機型，開發了ICP電感性等離子體刻蝕單臺反應器機型，正在開發雙臺機。設備產品不斷進入市場，刻蝕機銷售快速成長。

其次，隨著照明產業的發展，MOCVD設備市場需求在2017年-2018年達到歷史新高。尹志堯介紹，公司開發的MOCVD設備逐步成為氮化鎵基藍光LED器件制造的首選設備，連續獲得大批量訂單。

半導體設備國產化率提高是公司發展的重要推動力。尹志堯指出，國內集成電路制造產業大發展，大量資金不斷投入，對集成電路前端設備的需求量迅速提高。2019年國內集成電路前端市場達到全球的20%左右。

“設備國產化條件逐漸成熟，設備國產化趨勢日益明顯。”尹志堯表示。

覆蓋不同市場

“半導體設備產業波動大，必須未雨綢繆，擴展設備種類，覆蓋不同市場。”尹志堯表示，今后十年中微公司將采取三個維度的發展策略。一是從目前的等離子體刻蝕設備，擴展到化學薄膜設備以及和刻蝕及薄膜有關的測試等關鍵設備。二是擴展在泛半導體設備領域的產品，從用于制造MEMS和CIS影像感測器的刻蝕設備、制造藍光LED的MOCVD設備，擴展到更多的微觀器件加工設備，及制造深紫外LED、Mini-LED、Micro-LED等微觀器件的設備產品。三是探索核心技術在環境保護、工業互聯網等領域及其他新的應用。

尹志堯表示，公司將在適當時機，通過投資、并購等外延式生長途徑，擴大產品和市場覆蓋，未來十年力爭發展成為規模和市場占有率方面達到國際一流的半導體設備公司。

新產品開發方面，根據中微公司公告，公司等離子體刻蝕設備已應用在國內外知名廠商55納米到5納米的眾多芯片生產線上。特別是中微的電容性CCP等離子體刻蝕設備，已在國際領先的晶圓生產線核準5納米的若干關鍵步驟加工。

生產經營已步入正軌

中微公司相關業務受到疫情一定影響。“中微有400多家材料和零部件供應廠商，管理產業鏈的確是一個很有挑戰的任務。疫情期間，公司一直緊密跟蹤供應廠商的供貨情況，有問題及時解決，保證材料按時供應，設備的按時運出。”尹志堯說，少數供應商的極個別零部件，由于疫情影響產能調整，中微公司和這幾家供應廠商及時溝通，要求零部件按時到位。

生產方面，尹志堯介紹，2月下旬生產線已完全恢復，生產經營情況已步入正軌。設備按計劃運出方面，除武漢地區客戶有些推遲，其他地區都按計劃進行。疫情影響有限，公司今年訂單總體健康向好，但下半年情況要視疫情對整個半導體產業的影響。