高光束質量大功率半導體激光熔覆系統功率范圍涵蓋1000-4000w,采用國內首創的高光束質量大功率半導體激光器作為核心激光設備,該系統的半導體激光光束經特殊處理為平頂分布的矩形結構,在熔覆領域優于光斑模式呈圓形的近高斯分布的光纖激光器、固體激光器,CO2激光器,具有熔覆效率高、速度快、能耗低、熔覆層深度分布均勻,熱影響區小的優點,可實現大面積光斑的快速激光熔覆、廣泛應用于礦山機械、石油化工、發電站設備、航空冶金、工業模具等行業。
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激光制造網通訊員 來源:未知2012-03-01 我要評論(0 )
高光束質量大功率半導體激光熔覆系統功率范圍涵蓋1000-4000w,采用國內首創的高光束質量大功率半導體激光器作為核心激光設備,該系統的半導體激光光束經特殊處理為平頂...
高光束質量大功率半導體激光熔覆系統功率范圍涵蓋1000-4000w,采用國內首創的高光束質量大功率半導體激光器作為核心激光設備,該系統的半導體激光光束經特殊處理為平頂分布的矩形結構,在熔覆領域優于光斑模式呈圓形的近高斯分布的光纖激光器、固體激光器,CO2激光器,具有熔覆效率高、速度快、能耗低、熔覆層深度分布均勻,熱影響區小的優點,可實現大面積光斑的快速激光熔覆、廣泛應用于礦山機械、石油化工、發電站設備、航空冶金、工業模具等行業。
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